电子束蒸发镀膜设备
EBE （80cm*80cm*90 cm）
主要功能：
使用各种可蒸镀金属的颗粒，对目标衬底或晶圆进行相应薄膜材料的沉积。可以进行金属单质、化合物及介质薄膜的生长、沉积。
主要技术指标：
电子枪电源功率5 Kw, 兼容最大至150 mm直径基片，最大20 rpm转速。
服务内容：
薄膜生长
加工范例：
电子束蒸发镀膜设备
EBE （80cm*80cm*90 cm）
主要功能：
使用各种可蒸镀金属的颗粒，对目标衬底或晶圆进行相应薄膜材料的沉积。可以进行金属单质、化合物及介质薄膜的生长、沉积。
主要技术指标：
电子枪电源功率5 Kw, 兼容最大至150 mm直径基片，最大20 rpm转速。
服务内容：
薄膜生长
加工范例：