物理气相沉积设备

                      PVD 75 （387.4 mm x 419.1 mm x 609.6 mm）

主要功能：

利用氩离子轰击靶材表面，溅射出的材料会在基底表面沉积，可以用来沉积金属、氧化物、氮化物。

主要技术指标：

最大尺寸6 inch，基底加热温度200度，均匀性5%

服务内容：

金属薄膜、介质薄膜沉积

加工范例：