场发射扫描电镜及电子束直写设备
6英寸、5轴马达驱动 Regulus SU8230
主要功能：
利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形。用于制备纳米器件的微结构，集成光学器件光栅、光子晶体，小尺寸光刻掩模板等。
主要技术指标：
电子束能量100KV，最小精度50nm。
服务内容：
微纳图形加工
加工范例：
6英寸、5轴马达驱动 Regulus SU8230
主要功能：
利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形。用于制备纳米器件的微结构，集成光学器件光栅、光子晶体，小尺寸光刻掩模板等。
主要技术指标：
电子束能量100KV，最小精度50nm。
服务内容：
微纳图形加工
加工范例：